问题的关键不在于光刻机要发展到1nm和1nm以后的技术难与不难(当然很难做到)，而在于硅材料的本性决定了不允许做到比2nm更小的尺度。因为材料在2nm以下时，严重的电子隧道效应，使得半导体不再是半导体，绝缘体也不再是绝缘体，全都变成了导电体，请问你还能制作得出来所谓的硅基芯片吗？
硅基是不是到头不一定，但是突破越来越难是一定的，这也是我们国家的一个机会，无论在新材料芯片的突破，还是硅基芯片迎头赶上。都是好事
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